真空電鍍是一種高科技表面處理技術，可以在真空環(huán)境下將金屬、非金屬等材料鍍上薄膜，具有非常高的光學、電學和化學性能，下面同遠表面處理小編來講解一下。

　　一、基本原理

　　真空電鍍的原理是將待鍍物放入真空室中，然后加熱到一定溫度，使得金屬或非金屬材料處于蒸發(fā)狀態(tài)。蒸發(fā)出的材料會在真空環(huán)境下沉積在待鍍物表面，形成薄膜。這種沉積過程是通過物質(zhì)的高速活動和碰撞來實現(xiàn)的。真空電鍍的成膜速率和膜的品質(zhì)取決于真空質(zhì)量、材料的純度、溫度和沉積時間等因素。

　　二、過程步驟

　　1. 準備工作：將待鍍物表面清洗干凈，以去除油脂、污垢等雜質(zhì)。

　　2. 進入真空室：將待鍍物放入真空室中，并將室內(nèi)真空抽取至一定的真空度。

　　3. 加熱蒸發(fā)：對要鍍的金屬或非金屬材料進行加熱，使其處于蒸發(fā)狀態(tài)。

　　4. 沉積：蒸發(fā)出的材料在真空環(huán)境中飛散并在待鍍物表面沉積，形成薄膜。

　　5. 調(diào)整膜厚：通過調(diào)節(jié)加熱時間、升溫速率、真空度等參數(shù)來控制膜的厚度。

　　6. 涂覆保護層：在薄膜表面涂覆一層保護層，以保護膜的品質(zhì)和穩(wěn)定性。

　　7. 取出待鍍物：待鍍物完成后，取出真空室，進行后續(xù)處理。

　　三、優(yōu)點

　　真空電鍍技術具有以下優(yōu)點：

　　1. 鍍層質(zhì)量高：真空電鍍得到的薄膜具有非常高的質(zhì)量和穩(wěn)定性，表面光滑，無孔、無氣泡。

　　2. 鍍層厚度可控：可以根據(jù)需要控制膜的厚度和形狀，滿足各種應用要求。

　　3. 鍍層范圍廣：可以對各種材料進行真空電鍍，包括金屬、非金屬、陶瓷、塑料等。